超臨界萃取設備的化學工業的作用是什么
更新時間:2018-11-13 | 點擊率:1455
超臨界萃取設備的化學工業的作用是什么
這個超臨界流體工業化的應用,證明超臨界二氧化碳,能有效的與傳統民生工業在價格上作競爭.另外的清洗應用包括了金屬零組件的清洗,商業用洗碗機與一般的家用清洗設備.
利用超臨界二氧化碳,取代現行有機溶劑的染色技術,對于環保,廢水處理與制造成本上,有非常多的優點.由于超臨界二氧化碳流體,基本上的特性較接近氣體,故對于應用于取代有機液體,進行聚酯纖維的染色技術制程而言,不會有排廢問題的產生,這還包括了工業用水的減少,與有害工業廢棄物的減量.在經濟性的優點,還包括了產量的增加,減少能源的消耗,纖維染色技術工業化的應用成功,將增強染色技術在經濟上的競爭力,和紡織工業制程操作的技術提升,更能有效減少廢水的排放與染色的時間,對于時間,能源,環保與成本等層面,都是一大進步.因此,超臨界流體染色技術,將會是更省時,更經濟,更環保的新制程.超臨界流體染色技術研究在工研院化工所的努力之下,將帶領化工業者進入綠色化學時代的新搖籃.
超臨界二氧化碳,提供了傳統有機溶劑使用的另一種選擇.除了在環保上的優點之外,對于溫度,壓力,流速,反應物濃度等反應變因的控制,使反應本身的控制更為容易,由于反應操作控制容易,也相對的增加了反應的選擇性與產量.因此,反應本身能在較少的時間與空間上進行,對于設備成本投資的減少也是一大貢獻,對于一些反應物本身在二氧化碳流體溶解度較小的物質,主要的技術克服要點在于乳化微粒(micelle)的形成,與其在二氧化碳流體中的動速率.
對于半導體晶片上光阻物質和蝕刻的殘留物質,一直都沒有一種有效的化學方法來去除,通常必須配合幾種不同的方法與設備,例如電漿灰化(Plasmaashing )與濕式或乾式清洗,才能達到產品品質的要求,現有的濕式清洗方法是利用具侵蝕性的硫酸,雙氧水或有機溶劑混合使用,這些傳統的方法會產生大量的有機廢液,對環境造成極大的沖擊.因此包括隸屬美國能源部的LosAlamos 國家實驗室和其他各國的研究機構,也積極的在開發利用超臨界二氧化碳處理技術,以去除半導體晶片上的上述的光阻物質,利用超臨界流體技術處理方法,能有效的在單一清洗槽中,將半導體晶片上殘留雜質清洗干凈,由于超臨界流體的表面張力和黏度非常的低,故能有效而且快速的將清潔溶劑,帶到低于0.18μm的微細組織結構中,對于光阻物質及其衍生物的去除,同樣的能大量的減少有害溶液的使用量,并減少廢水的產生,更重要的是簡化了制程并增加產量.
此外,下列的化工產業也開始使用超臨界二氧化碳萃取技術,以降低生產過程的污染物產生
A.石油殘渣油的脫瀝
B.原油的回收,潤滑油的再生
C.烴的分離,煤液化油的提取
D.含有難分解物質的廢液的處理
這個超臨界流體工業化的應用,證明超臨界二氧化碳,能有效的與傳統民生工業在價格上作競爭.另外的清洗應用包括了金屬零組件的清洗,商業用洗碗機與一般的家用清洗設備.
利用超臨界二氧化碳,取代現行有機溶劑的染色技術,對于環保,廢水處理與制造成本上,有非常多的優點.由于超臨界二氧化碳流體,基本上的特性較接近氣體,故對于應用于取代有機液體,進行聚酯纖維的染色技術制程而言,不會有排廢問題的產生,這還包括了工業用水的減少,與有害工業廢棄物的減量.在經濟性的優點,還包括了產量的增加,減少能源的消耗,纖維染色技術工業化的應用成功,將增強染色技術在經濟上的競爭力,和紡織工業制程操作的技術提升,更能有效減少廢水的排放與染色的時間,對于時間,能源,環保與成本等層面,都是一大進步.因此,超臨界流體染色技術,將會是更省時,更經濟,更環保的新制程.超臨界流體染色技術研究在工研院化工所的努力之下,將帶領化工業者進入綠色化學時代的新搖籃.
超臨界二氧化碳,提供了傳統有機溶劑使用的另一種選擇.除了在環保上的優點之外,對于溫度,壓力,流速,反應物濃度等反應變因的控制,使反應本身的控制更為容易,由于反應操作控制容易,也相對的增加了反應的選擇性與產量.因此,反應本身能在較少的時間與空間上進行,對于設備成本投資的減少也是一大貢獻,對于一些反應物本身在二氧化碳流體溶解度較小的物質,主要的技術克服要點在于乳化微粒(micelle)的形成,與其在二氧化碳流體中的動速率.
對于半導體晶片上光阻物質和蝕刻的殘留物質,一直都沒有一種有效的化學方法來去除,通常必須配合幾種不同的方法與設備,例如電漿灰化(Plasmaashing )與濕式或乾式清洗,才能達到產品品質的要求,現有的濕式清洗方法是利用具侵蝕性的硫酸,雙氧水或有機溶劑混合使用,這些傳統的方法會產生大量的有機廢液,對環境造成極大的沖擊.因此包括隸屬美國能源部的LosAlamos 國家實驗室和其他各國的研究機構,也積極的在開發利用超臨界二氧化碳處理技術,以去除半導體晶片上的上述的光阻物質,利用超臨界流體技術處理方法,能有效的在單一清洗槽中,將半導體晶片上殘留雜質清洗干凈,由于超臨界流體的表面張力和黏度非常的低,故能有效而且快速的將清潔溶劑,帶到低于0.18μm的微細組織結構中,對于光阻物質及其衍生物的去除,同樣的能大量的減少有害溶液的使用量,并減少廢水的產生,更重要的是簡化了制程并增加產量.
此外,下列的化工產業也開始使用超臨界二氧化碳萃取技術,以降低生產過程的污染物產生
A.石油殘渣油的脫瀝
B.原油的回收,潤滑油的再生
C.烴的分離,煤液化油的提取
D.含有難分解物質的廢液的處理
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